光刻机采用的曝光光源，光源波长分为：紫外，深紫外，和极紫外区域。
5纳米级光刻机，必须采用极紫外区域的光源，该区域光源属于人类技术盲区，为了克服拿下这个光源技术，周兴以惊人的效率摄取了大量知识，配合上周智强大的计算能力，智能模拟验算能力，经历四十几个日夜不分昼夜的研究，排除万难，用独特的方式拿下了5纳米级光刻机的核心光源技术。
核心光源技术拿下，现在要将这个份核心部件的图纸绘画出来，以周兴的电子绘图的速度都要一个月的时间。
周兴预估存储这个核心部件的电子图纸，大概想要用到10B的硬盘才够用。
周兴咬牙切齿地画着电路图，心中盘算起其他的想法，
这个5纳米级光刻机项目将诞生几百项先进专利，然而，学校实验室那边起的作用少的可怜，这次绝不能便宜了学校。